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濕法刻蝕-Wet Etch
刻蝕是整個IC制造中的工藝，是與光刻膠相聯(lián)系進行圖像化處理的一種技術，刻蝕過程需要控制刻蝕偏差，分為濕法刻蝕和干法刻蝕。文章介紹濕法知識。#半導體#光刻機#光刻膠#刻蝕機
來源: | 作者:pmoe2a7d5 | 發(fā)布時間: 2024-01-03 | 1770 次瀏覽 | 分享到:

濕法腐蝕機

按照刻蝕方式和所使用的物質不同，刻蝕可以分為干法刻蝕和濕法刻蝕兩類。

濕法刻蝕： (Wet Etch)是一個純粹的化學反應過程，是指將待刻蝕材料浸泡在腐蝕液內進行腐蝕的技術。

優(yōu)點:設備簡單、重復性好、成本低、刻蝕速度快、生產(chǎn)效率高；

缺點:具有各向同向，橫向刻蝕的寬度接近垂直刻蝕的深度，光刻膠下面會有刻蝕液的滲入，導致鉆刻嚴重，對圖形的控制性較差，不能用于小的特征尺寸，很難處理非常精細的電路圖:會產(chǎn)生大量的化學廢液；

因為濕法刻蝕存在不容忽視的刻蝕偏差，所以一般用于晶圓磨片、拋光、清洗等環(huán)節(jié)。