一、光刻膠的分類
光刻膠是一種在半導(dǎo)體制造中使用的材料，用于制造微芯片和集成電路。光刻膠的分類通常可以基于以下幾個(gè)方面：
1.化學(xué)成分： 光刻膠可以根據(jù)其化學(xué)成分的不同進(jìn)行分類，分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠。正性光刻膠是光照射不到的地方留下圖形。負(fù)性光刻膠是光照射到的地方留下圖形。例如：
正膠（Positive Photoresist）： 曝光后變得更容易被溶解的光刻膠，未曝光區(qū)域保留。常見的正膠有novolac型正膠等。
負(fù)膠（Negative Photoresist）： 曝光后變得更難被溶解的光刻膠，曝光區(qū)域保留。負(fù)膠的例子包括methacrylate型負(fù)膠等。
2.敏感波長： 光刻膠對曝光的光波長也有不同的選擇，例如：
紫外線光刻膠（UV Photoresist）： 對紫外線敏感，常見波長為365nm或248nm。
深紫外線光刻膠（DUV Photoresist）： 對更短波長的深紫外線（193nm或更短）敏感，用于更高分辨率的制程。
3.用途和性能： 光刻膠還可以根據(jù)其在制造過程中的具體用途和性能進(jìn)行分類，例如：
用于多層工藝的光刻膠： 適用于多次重復(fù)光刻步驟的材料。
高溫光刻膠： 能夠在高溫條件下保持穩(wěn)定性的光刻膠，用于某些特殊制程。
以上是光刻膠涂布工藝一些常見的分類方式，具體的分類還可能涉及到更多的特性和要求，根據(jù)具體應(yīng)用和工藝的需要而選擇不同類型的光刻膠。
二、光刻膠涂布工藝感光機(jī)理
光刻膠涂布是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵工藝步驟，用于制備芯片上的圖案。以下是光刻膠涂布工藝和感光機(jī)理的基本概念：
光刻膠涂布工藝：
基片準(zhǔn)備： 首先，硅基片會經(jīng)過一系列清洗和處理步驟，以確保表面干凈，并且能夠更好地與光刻膠結(jié)合。
涂布光刻膠： 在基片表面涂布光刻膠，通常采用旋涂的方式。旋涂是將光刻膠滴在基片上，然后通過旋轉(zhuǎn)基片使其均勻分布。
預(yù)烘烤： 涂布后，光刻膠需要進(jìn)行短暫的預(yù)烘烤，以去除溶劑，使其更加均勻。
曝光： 使用光刻機(jī)，通過光掩模將光刻膠的特定區(qū)域曝光于紫外光。光刻機(jī)會投射光刻膠表面的圖案，使其在曝光區(qū)域發(fā)生化學(xué)或物理變化。
后烘烤： 曝光后，光刻膠需要進(jìn)行后烘烤，以進(jìn)一步固化和穩(wěn)定曝光后的圖案。
顯影： 通過顯影液處理，去除未曝光區(qū)域的光刻膠，留下曝光區(qū)域的圖案。
清洗： 最后，清洗基片以去除顯影液等殘留物，準(zhǔn)備進(jìn)行下一步工藝。
感光機(jī)理：
光刻膠的感光機(jī)理涉及到化學(xué)反應(yīng)。在曝光過程中，光刻膠中的感光劑會吸收紫外光能量，導(dǎo)致發(fā)生化學(xué)變化。這種變化通常表現(xiàn)為感光膠的溶解性或化學(xué)性質(zhì)的改變。具體感光機(jī)理可能因所使用的光刻膠而異，但一般包括以下步驟：
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