今天十四场的对阵表|nba最高球员|康纳vs|竞彩足球让球胜平负对阵表开|巡回锦标赛奖金分配

 
歡迎您來到愛姆加電子設備有限公司官網,我們將竭誠為您服務

服務電話:+86-15891750928

愛姆加logo
愛姆加電子設備
勻膠顯影蝕刻專用設備生產商



誠信創新
精工
專注
專注成就品質,品質塑造未來!
Focus on the achievement of quality, quality to shape the future!?
新聞中心
光刻膠涂布工藝
來源:《半導體工藝基礎精講》#半導體#顯影去膠工藝 | 作者:pmoe2a7d5 | 發布時間: 2024-01-16 | 1716 次瀏覽 | 分享到:

吸收光能: 感光劑吸收曝光光線的能量,進入激發態。

化學變化: 激發態的感光劑與光刻膠中的其他化合物發生化學反應,導致局部的化學結構改變。

形成圖案: 經過曝光后,通過顯影過程,只有發生化學變化的區域被保留下來,形成所需的圖案。

       不同類型的光刻膠可能使用不同的感光機理,但以上步驟提供了一般的概述。光刻膠的性能和效果對芯片制造的成功至關重要。負性光刻膠由感光材料+聚合物組合,光照射后進一步聚合,不溶于顯影液的有機溶劑,光照射區保留圖形。正性光刻膠由光分解劑和堿性可溶性樹脂及溶劑組成,為重氮茶醒磺酸醋及線性酚醛制成。光照射后氮氣脫離,變成酮結構。用堿性水溶液顯影變成水溶性的羥酸,然后被去除,即沒有被光照的區域留下圖形。

三、要求

中短波長段的可見光使光刻膠 感光,因此,光刻區域與普通潔凈室是隔開的,采用不會使光刻膠感光的照明光源,稱為黃光區。光刻膠涂布工藝時,轉速越高,薄膜厚度越薄;光刻膠黏度越高,薄膜厚度越厚。晶圓邊緣會出現膜厚稍厚的部分,為邊緣堆積,則需要進行邊緣沖洗,還要進行背面沖洗,防止光刻膠測流到晶圓背面。顯影工藝中負性光刻膠使用甲苯、乙酸乙酯顯影液,去除沒有發生光聚合反應的部分。正性光刻膠使用氫氧化銨顯影液,溶解被光照射的部分。