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晶圓級封裝的五項(xiàng)基本工藝
在本文中將重點(diǎn)介紹半導(dǎo)體封裝中的重要方法——晶圓級封裝（WLP）。本文我們將探討晶圓級封裝的五項(xiàng)基本工藝，包括：光刻（Photolithography）工藝、濺射（Sputtering）工藝、電渡（Electroplating）工藝、光刻膠去膠（PR Stripping）工藝和金屬刻蝕（Metal Etching）工藝。

來源: | 作者:pmoe2a7d5 | 發(fā)布時(shí)間: 2024-01-29 | 1925 次瀏覽 | 分享到: