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光刻工序中的track機臺（Track System），用于光刻工藝中光刻膠的涂布、烘烤、顯影等步驟。它可與曝光機配合使用，完成從涂膠到顯影的全過程。

熱板與冷板的作用
熱板：在涂覆光刻膠后，使用熱板對其進行軟烘，以去除溶劑并提高其粘度；在曝光后，熱板用于進行PEB過程，進一步驅逐殘余的溶劑，穩定光刻膠的結構，減少曝光后的形變和模糊；顯影后，使用熱板進行堅膜，增強光刻膠的抗腐蝕性。
冷板：在每次熱烘步驟之后，自然冷卻時間太久，為了提高效率，需要使用冷板快速冷卻光刻膠。這有助于快速固化光刻膠，減少熱應力和熱變形。
track中熱板與冷板的數量配置

根據熱板與冷板的特點，以及每個工序的要求，在晶圓廠中，track機臺一般是多腔室的。在多腔室的track機臺，用到熱板的次數相對變多，那么熱板的數量要大于冷板數量，可以按4:1或3：1的比例配置。而在腔室數量較少的track機臺中，或某些干膜的顯影機臺中，也見過1：1的比例。當然在配置的核心是不讓晶圓長時間等待下一個工序，合理利用機臺。

熱板與冷板的溫度
一般熱板的上限溫度在200℃以內，而冷板則要接在PCW上循環降溫即可。因為溫度過高會導致光刻膠變形，回流，沒有必要設置過高的溫度上限。