愛姆加公司經過多年的研發及試驗,針對于方形基片及異形基片有自己的涂布方式,同時旋涂后的均勻性指標直徑在200mm范圍內的晶片,均勻性指標基本在2%之內,以下我公司針對異形基片涂布前的分析仿真圖:
同時旋涂后的均勻性指標直徑在200mm范圍內的晶片,均勻性指標基本在2%之內,以下我公司針對異形基片涂布前的分析仿真圖:同時旋涂后的均勻性指標直徑在200mm范圍內的晶片,均勻性指標基本在2%之內,以下我公司針對異形基片涂布前的分析仿真圖:同時旋涂后的均勻性指標直徑在200mm范圍內的晶片,均勻性指標基本在2%之內,以下我公司針對異形基片涂布前的分析仿真圖:同時旋涂后的均勻性指標直徑在200mm范圍內的晶片,均勻性指標基本在2%之內,以下我公司針對異形基片涂布前的分析仿真圖:同時旋涂后的均勻性指標直徑在200mm范圍內的晶片,均勻性指標基本在2%之內,以下我公司針對異形基片涂布前的分析仿真圖:同時旋涂后的均勻性指標直徑在200mm范圍內的晶片,均勻性指標基本在2%之內,以下我公司針對異形基片涂布前的分析仿真圖:同時旋涂后的均勻性指標直徑在200mm范圍內的晶片,均勻性指標基本在2%之內,以下我公司針對異形基片涂布前的分析仿真圖:同時旋涂后的均勻性指標直徑在200mm范圍內的晶片,均勻性指標基本在2%之內,以下我公司針對異形基片涂布前的分析仿真圖:同時旋涂后的均勻性指標直徑在200mm范圍內的晶片,均勻性指標基本在2%之內,以下我公司針對異形基片涂布前的分析仿真圖: