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愛姆加電子設備

勻膠顯影蝕刻專用設備生產商

誠信創新

專注

精工

專注成就品質，品質塑造未來！

Focus on the achievement of quality, quality to shape the future！?

全自動勻膠顯影機

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:2000000.00

價格:2000000.00

Wafer Size: 2-12英寸（兼容尺寸依據客戶晶圓尺寸可選） 全自動勻膠顯影一體機設備和各工位全封閉設計，不受外環境干擾設備實現2"-12"晶圓涂膠（SPIN COATING）-顯影模  (SPIN DEV)-OVEN單元（冷熱板及增粘功能可選）同片盒內每個硅片可分別制定工藝運行自帶暫停/恢復功能,以及故障排除功能，排風自動調節（可選）......
6/8英寸全自動勻膠顯影機

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:1500000.00

價格:1500000.00

Wafer Size: 2-12英寸（兼容尺寸依據客戶晶圓尺寸可選） 全自動勻膠顯影一體機設備和各工位全封閉設計，不受外環境干擾設備實現2"-12"晶圓涂膠（SPIN COATING）-顯影模  (SPIN DEV)-OVEN單元（冷熱板及增粘功能可選）同片盒內每個硅片可分別制定工藝運行自帶暫停/恢復功能,以及故障排除功能，排風自動調節（可選）......
12英寸自動勻膠顯影機－愛姆加電子

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:3000000.00

價格:3000000.00

Pumping封裝、3D-TSV、MEMS、OLED等領域PR工藝涂膠膠顯影 Wafer Size: 12英寸全自動勻膠顯影一體機設備和各工位全封閉設計，不受外環境干擾晶圓涂膠（SPIN COATING）-顯影模       (SPIN DEV)-OVEN單元（冷熱板及增粘功能可選）同片盒內每個硅片可分別制定工藝運行自帶暫停/恢復功能,以及故障排除功能，排風自動調節（可選）......
半自動涂膠顯影機－愛姆加電子

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:500000.00

價格:500000.00

晶圓尺寸：2-12英寸可選 功能：手動上下取片、其他工藝自動完成自動滴膠、甩膠、勻膠 光刻機供膠系統：膠路可選配（需前提告知膠粘度） EBR清洗-BSR清洗功能選配 可選配高效FFU功能 晶片固定方式有：機械夾所持與真空吸附
方形基片半自動顯影機

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:20000000.00

價格:20000000.00

半自動顯影設備M+/D450-40，主要用于完成基片顯影工藝。 方形基片勻膠機，主要用于完成方形基片（全息光柵涂膠機） 大尺寸玻璃片勻膠機、方形基片顯影機等勻膠、顯影、清洗工藝 大尺寸的玻璃以及厚度在20MM以內的基片 光刻膠及化學藥液的供給系統可選......
勻膠機-愛姆加電子

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:500000.00

價格:500000.00

勻膠機-針對實驗室勻膠機立柜式勻膠機可選配自動滴膠以及加有上蓋的防濺功能 主軸轉速： 200～8000RPM精度±1RPM，轉速可調......
方形基片涂膠機

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:800000.00

價格:800000.00

   方形基片涂膠機也可有于掩膜版涂膠機（掩膜版勻膠機），也叫做PHOHOMASK COATING ,或者光罩版勻膠機......
方形基片涂膠機

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:0.00

價格:0.00

適應尺寸：200mm×200mm t=1-8mm以下方形基片-具有旋涂、勻膠、清洗、吹氮功能
方形基片清洗系統

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:0.00

價格:0.00

方形基片處理系統主要用于PHOTOMASK、OLED、及小型 陶瓷基片的清洗等工藝
方形基片處理系統

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:0.00

價格:0.00

方形基片處理系統主要用于PHOTOMASK、OLED及小型陶瓷基片的涂布、顯影、清洗等工藝;玻璃勻膠機、光柵勻膠機
EBR去邊-愛姆加

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:200000.00

價格:200000.00

方形基片的邊緣清洗,采用二流體與發生器的原理實現液體的回收
自動清洗甩干機

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:0.00

價格:0.00

自動甩干機原理是旋轉沖洗，主要用于硅圓片、太陽能電池等其他類似材料的沖洗、吹氮、甩干功能；去離子水配有導電率計，用于電導率檢測；產品有單腔、雙腔兩種結構。
半自動勻膠機-愛姆加

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:500000.00

價格:460000.00

手動上下片-自動完成滴膠-甩膠-勻膠等工藝  UP COVER依據基片形狀可選 光刻膠供液系統：可選 EBR清洗功能：可選 BSR背洗功能P：可選 ......
化學液罐-SUS TANK(316)-愛姆加

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:5000.00

價格:5000.00

化學液罐SUS316,體積有：2加侖與5加侖，內部化學電解拋光，顆粒度小于0.1微米（參考外徑尺寸：直徑是216mm)
半自動顯影機

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:600000.00

價格:600000.00

設備主要由主軸單元、顯影液供給系統（附加恒溫裝置） 清洗系統、控制系統等組成   顯影系統可選配幾路液體 手動上下取片，工藝自動完成
8/12英寸全自動勻膠顯影機

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:150000.00

價格:150000.00

設備組成：片盒站、傳送機器人、勻膠/顯影單元、烘烤單元（HMDS模塊、熱板模塊、冷板模塊 模塊根據要求選配 供膠及顯影可定制。