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槽式電鍍設備
    發布時間: 2020-03-27 10:42    

用于6inch及以下尺寸各種襯底如硅片、化合物半導體晶片(GaAs,InP等)、玻璃片和陶瓷片等進行電鍍金工藝
鍍膜設備功能基本配置都有,可選
具體的工藝需要打樣才可確定
電源也是根據不同的金屬材料可選


槽式電鍍設備

用途:

該機臺主要適用于6inch及以下尺寸各種襯底如硅片、化合物半導體晶片(GaAs,InP等)、玻璃片和陶瓷片等進行電鍍金工藝,適合研發和生產使用。

產品特點:

適合各種形狀晶片(圓形、方形等)和非整片的電鍍金工藝。

適合無氰電鍍工藝,符合環保要求和保證操作安全。

采用PLC集成控制和獨特的結構設計,保證工藝的質量。

主體材料和配件均采用進口品牌,保證設備的可靠性

用于6inch及以下尺寸各種襯底如硅片、化合物半導體晶片(GaAs,InP等)、玻璃片和陶瓷片等進行

鍍金工藝
鍍膜設備功能基本配置都有,可選
具體的工藝需要打樣才可確定
電源也是根據不同的金屬材料可選