適應于方形基片尺寸為□1500×1200×8-20mm
(厚度范圍:8.-20mm)的玻璃基片勻膠 工藝,
手動放置基片,自動完成基片甩膠、勻膠工藝
適應于方形基片尺寸為□1500×1200×8-20mm(厚度范圍:8.-20mm)的玻璃基片勻膠 工藝,手動放置基片,自動完成基片甩膠、勻膠工藝。
超大尺寸勻膠設備 M+/1500-C,主要用于完成基片光阻涂布工藝。設備可分別配置主軸旋轉裝置、 光阻供液系統(腔體清洗液)、排風系統、上料裝置、控制部份等;設備具有如下特點: 占地面積相對較小,適應范圍廣。 具備故障診斷,歷史記錄追憶功能。 操作界面簡捷,配方編制、儲存、編輯、調用靈活。 整機采用框架結構,工作方式為手動上下基片,自動完成邊緣清洗工藝。 設備依 GB/T19001-2008 ;GB/T24001-2004;GB/T28001-2001;SEMI SⅡ標準制造。