晶圓尺寸:2-12英寸可選
功能:手動上下取片、其他工藝自動完成自動滴膠、甩膠、勻膠
光刻機供膠系統:膠路可選配(需前提告知膠粘度)
EBR清洗-BSR清洗功能選配
可選配高效FFU功能
晶片固定方式有:機械夾所持與真空吸附
半自動涂膠顯影機
特點:
手動上下取片
自動滴膠、甩膠、勻膠
供膠系統
排風系統
可配EBR&BSR功能適用用圓片尺寸: 2”、3”、4”;以及5x5,10x10,25x25方片
工藝工步:
放置圓片(可輔助定中心) 啟動 防濺罩到上位 真空吸片 防塵帽閉合 電機啟動
吹氮氣 低速滴膠 加速、高速勻膠 上刮邊 下刮邊
電機停止 防塵帽開啟 防濺帽到下位 去真空、卸片(工藝結束)以上各工步流程為自動執行,其中防塵帽、防濺帽、真空具有手動功能;
主軸徑向跳動≤0.02mm,軸向竄動≤0.04mm;
主軸轉速:200~7000轉/分,誤差±20轉/分,連續可調;
主軸加速度(空載):0~3×103rad/秒2,連續可調;
工藝工步時間:0~999.9秒,設定增量±0.1秒;
滴膠量和速度可調;
功能:晶圓尺寸:2-12英寸可選
功能:手動上下取片、其他工藝自動完成自動滴膠、甩膠、勻膠
光刻機供膠系統:膠路可選配(需前提告知膠粘度)
EBR清洗-BSR清洗功能選配
可選配高效FFU功能
晶片固定方式有:機械夾所持與真空吸附