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EBR去邊-愛姆加
    發布時間: 2020-03-25 13:45    

方形基片的邊緣清洗,采用二流體與發生器的原理實現液體的回收

EBR去邊-愛姆加

光刻膠洗邊技術：Edge Bead Removal(EBR),勻膠過程中硅片邊緣會形成厚度不均勻的膠層，不僅拉低晶圓的顏值還可能對光刻、顯影過程產生影響，降低芯片性能。故在光刻中，需要對邊緣膠層進行去除，噴嘴向晶圓邊緣噴灑溶劑，溶劑與邊緣接觸后溶解，完成洗邊。

產品特點：  

方形基片的邊緣清洗

邊緣區域：1-20mm

基片厚度要求：0.5-20mm

自動對準邊緣尺寸

液體噴嘴數量可選可增配