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小型精密狹縫涂布機

新開發(fā)設備

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<p><span style="font-size: 14px;">高精度狹縫式涂布機是在不同剛性或柔性基材上制備涂布工藝的理性選擇。無論是需要進行納米級及亞微米級功能</span></p>
廢氣處理

新開發(fā)設備

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<p><span style="color: rgb(255, 0, 0); font-family: SourceHanSansCN-Regular; font-size: 12px; text-wrap: wrap;">廢氣處理設備生產(chǎn)加工，可以到現(xiàn)場測量定制<br/>處理極別選配<br/>直徑及高度可訂制</span></p>
半導體晶圓清洗機

新開發(fā)設備

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<p><span style="font-family: SourceHanSansCN-Regular; font-size: 12px; text-wrap: wrap; background-color: rgb(255, 255, 255); color: rgb(0, 0, 0);">基本尺寸規(guī)格：4/6/8寸標準晶圓，晶圓厚度80-100um<br/>RCW清洗設備的生產(chǎn)<br/><span style="background-color: rgb(255, 255, 255); font-size: 12px; text-wrap: wrap; font-family: 華文中宋;">APM1#液去表面顆</span></span></p>
冷板熱板一體機

新開發(fā)設備

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<p><span style="font-family: SourceHanSansCN-Regular; font-size: 12px; text-wrap: wrap; color: rgb(255, 0, 0);">冷熱板烘烤單元－愛姆加制造<br/>兩個單元也可以分開，同時對尺寸可選配<br/>冷板與熱板指標也可選高溫等要求。<br/></span></p>
熱板爐 M+HP200

新開發(fā)設備

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<p><span style="font-family: SourceHanSansCN-Regular; font-size: 12px; text-wrap: wrap; color: rgb(255, 0, 0);">主要用半導體工藝生產(chǎn)中烘烤晶圓等(如:涂膠/顯影/光刻等工藝之后的烘烤)</span></p>
全自動勻膠顯影機

新開發(fā)設備

市場價:1200000.00

價格:1200000.00

<p><span style="color: rgb(255, 0, 0);"><span style="font-family: SourceHanSansCN-Regular; font-size: 12px; text-wrap: wrap;">設備實現(xiàn)2"-12"晶圓兼容</span><br style="font-size: 12px; text-wrap: wrap; color: rgb(80, 80, 80); text-indent: 24px; font-family: Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif; background-color: rgb(255, 255, 255);"/><span style="font-family: SourceHanSansCN-Regular; font-size: 12px; text-wrap: wrap;">      涂膠、顯影</span></span></p>
超聲波噴霧涂膠機

新開發(fā)設備

市場價:8000000.00

價格:8000000.00

<p><span style="font-family: SourceHanSansCN-Regular; font-size: 12px; text-align: justify; text-wrap: wrap; color: rgb(255, 0, 0);">噴霧式涂布機主要用于開發(fā)研究和各種半導體器件（MEMS)和微機<br/>械，超聲的頻率可調；XY速度-旋轉角度</span></p>

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