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掩膜版涂膠機(jī)-愛(ài)姆加
    發(fā)布時(shí)間: 2020-10-08 18:56    

此設(shè)備主要用于photomask 涂布工藝
晶圓尺寸wafer size:12英寸（根據(jù)客戶晶圓選購(gòu)）
噴膠裝夾工具可選訂

掩膜版涂膠機(jī)-愛(ài)姆加
photomask coater     

型號(hào)：Ｍ+-DS200C 主要特點(diǎn)：  

適應(yīng)尺寸：200mm×200mm t=1-8mm以下方形基片

具有旋涂、勻膠、清洗、吹氮功能

主軸采用進(jìn)口電機(jī)及部件

高轉(zhuǎn)速、精度±1RPM

FFU-THC功能（可選）

相對(duì)于OLED、TFT的工藝的要求.

掩膜版涂膠機(jī)