主要用于光阻涂膠工藝,
原理是借用于液體的漲力原理進行彎月面涂膠,
主要裝置就液刀口溢出的光阻涂布在基板表面
用途:主要用于光阻涂膠工藝,原理是借用于液體的漲力原理進行彎月牙涂膠,主要裝置就液刀口溢出的光阻涂布在基板表面。
一、產品使用范圍:
二、彎月牙涂膠基板尺寸:1400 mm×420 mm×200 mm); 液體膠刀的有效尺寸為:420mm:
二、設備概述:
此膠狹縫系統包括供膠系統、精密膠刀、平面度調節機構、膠盒移動等部件組成。 1 供膠系統:伺服電機帶動磁力泵供給膠刀,回流過濾循環供給,膠泵采購進口壓力流量可調的磁力泵。 2 精密膠刀: 膠刀出液狹縫可調,可適應100CP-200CP的光阻藥液。同時出液的高度(0.15-0.25mm)通過調整泵的 供壓力及狹縫配合來調。 3 平面度調節機構 膠刀與膠盒的平行度可通過膠盒內的螺釘進行調平,膠刀與連接平面也可調整,膠刀與基板的平面通過機 械方式也可調整。 4 利用電磁閥及氣缸來實現膠盒蓋的上下、左右方向的移動。 三、設備控制設計:
供泵系統膠泵為伺服電機,膠泵的壓力、流速通過調節電機的轉速控制。 2.膠盒蓋通過氣缸控制+電磁閥(氣缸都裝有上下,左右位置檢測傳感器)。 3.基板移動加有接近開關(主要用于檢測基板是否移過)。