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2024-01-03
“邊膠”的產生及改善厚膠旋涂和方形襯底勻膠時邊緣會形成較厚的光刻膠膠邊即邊膠,邊膠是硅片邊緣形成的厚度不均勻的膠層,不僅影響晶圓的外觀還對接觸式光刻工藝產生影響,光刻、顯影等過程產生缺陷,芯片性能降低:由于邊緣光刻膠的溶劑殘留量高,即使在前烘后,掩膜板也會粘附【詳細】
2024-08-28
2020-03-27
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